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離子鍍膜（PVD 鍍膜）技術(shù)其具體的原理主要是指，在真空的環(huán)境下，運用大電流、低電壓的電弧放電技術(shù)，通過合理運用氣體放電，即可促使靶材迅速蒸發(fā)，蒸發(fā)氣體與物質(zhì)均能夠被迅速電離，再通過對電場的加速，從而促使各種反應(yīng)產(chǎn)物和蒸發(fā)物質(zhì)能夠大量聚集在工件之上。PVD 離子鍍膜因其所具備的各項特點，其與真空蒸發(fā)鍍膜比較，存在以下優(yōu)點：
（1）離子具有較好的繞射性能，可對各種復(fù)雜的鍍形狀工件進(jìn)行處理；
（2）工件與膜層表面具有較強(qiáng)的結(jié)合力，故具有更高的耐磨性和持久性；
（3）其所能夠鍍膜的種類非常繁多；
（4）膜層具有較快的沉積速率，并且有著較高的生產(chǎn)效率；
（5）具有較為穩(wěn)定的膜層性能，其安全性也非常高?！　?br /> PVD 技術(shù)更多的適用于成型、沖壓、拉伸等模具，車刀、鉆頭等刀具以及精密零配件等。在對模具進(jìn)行涂層技術(shù)的處理之后，可促使抗磨力、硬度得到有效提升，同時還可促使摩擦系數(shù)降低，從而促使工件的使用壽命得以延長，通常情況下，與未處理過的工件比較，其壽命能夠增加 3-10 倍。截至目前為止，較常見的涂層主要包括：TiCN、CiN等，各種涂層處理技術(shù)，其所具備的用途和特性有明顯差異。